《平板顯示器件掩模版有效麵積規範》等三項國家標準討論會在新太陽城光電召開

         2019年6月14日 ，由全國半導體設備和材料標準化委員會主辦 ，新太陽城光電承辦的《平板顯示器件掩模版有效麵積規範》等三項國家標準討論會（以下簡稱《標準》）在四川成都召開 ，全國半導體設備和材料標準化委員會領導及行業專家代表們共同探討掩模版行業的相關規範和標準 。

      會上 ，中國電子技術標準化研究院曹可慰先生對《標準》製訂的指導原則和要求作了詳細說明 ，並闡述了《標準》的重要性與緊迫性 。成都新太陽城光電有限公司總經理助理陳俊榮先生代表新太陽城光電致歡迎辭 ，對與會者的到來表示熱烈的歡迎 。

      各位行業領導和專家對《平板顯示器件掩模版有效麵積規範》 、《平板顯示器掩模版缺陷術語》 、《平板顯示器掩模圖形精度術語》三項標準的討論稿進行了熱烈討論 ；對掩模版相關麵積規範、術語等進行了規定 。該《標準》的製定 ，對於提高掩模版行業的規範性有重大意義 。編製組將根據會議討論結果盡快開展相關工作 ，把重要意見和建議逐一落實在條文上 ，提高《標準》的操作性和實用性 ，進一步完善《標準》的質量 。