全球光電產業第一展 · 激發全新動能

見證中國光電產業興起的中國國際光電博覽會（CIOE） ，享譽全球光電產業第一展 ，已然在深圳創辦24年 ，每一屆展會都吸引了上下遊的眾多技術 、產品 、信息 、資金 、人才等各種資源要素集聚 ，引領產業發展風向 ，激發全新發展動能 ，推動經濟高質量發展 。

2024年9月11日 ，第25屆中國國際光電博覽會（CIOE）在深圳國際會展中心隆重開幕 。作為全球規模最大 、影響力最強的光電行業展會之一 ，CIOE已成為光電產業發展的“風向標”和“創新引擎” ，吸引了全球超過3700家光電企業參展 ，涵蓋信息通信 、精密光學 、激光及智能製造等多個領域 ，全麵展示了光電技術在未來產業發展中的廣泛應用和發展前景 。此次展會有超過80場的前沿產業 、應用及學術會議 ，邀請來自全球的光電領域院士 、權威專家 、學者及行業領袖 ，圍繞光電技術的最新進展 、行業趨勢 、市場機遇等熱點話題進行深入探討與分享 ，為參會者提供寶貴的學習和交流機會 ，同時為光電行業的未來發展指明方向 。本次展會不僅展示了最新的光電技術和解決方案 ，還為行業的合作與交流搭建了重要平台 。

博覽會現場 

作為國內領先的半導體光電企業 ，新太陽城光電攜核心產品亮相此次盛會 ，展示了在技術創新和行業應用中的強大優勢。其中高分辨率掩膜版產品 ，能夠在極端複雜的製程條件下實現高精度圖像轉移 ，為先進製程提供上遊技術支撐 ；同時具備國內首條G11光掩膜版產線 ，標誌著中國打破日 、韓企業在G11光掩膜版領域的壟斷地位 ，整體提升我國在顯示行業的國際話語權 ，尤為重要的是新型掩膜版產品采用了先進材料和製程工藝 ，使圖形轉移的穩定性進一步提升 ，降低了光刻過程中因環境因素產生的誤差 。對於半導體芯片製造商而言 ，這無疑是提升良品率 、降低製造成本的重要保障 。此外 ，掩膜版技術的革新不僅僅體現在物理性能的提升上 ，數字化製造流程的引入也是未來技術發展的一個重要方向 。新太陽城光電在本屆展會上強調了智能製造與掩膜版工藝的深度融合 ，通過數字化控製係統 ，實時監控和調節掩膜版製造中的關鍵工藝參數 ，從而確保產品的一致性和高效性 。

新太陽城光電展位

半導體產業的快速發展離不開核心工藝技術的持續突破 ，而掩膜版作為半導體光刻工藝的上遊關鍵節點 、關鍵材料之一 ，扮演著決定性角色 。近年來 ，隨著半導體製造工藝的持續迭代 ，先進工藝要求掩膜版具備更高的分辨率 、更好的穩定性和更低的誤差率 ，以應對芯片生產對精細圖形和高密度集成的需求 。本屆CIOE展會全方位展示了光電產業的最新成果 ，為光電產業及下遊應用領域帶來了前沿的新技術 、新模式 ，激發行業新思考 ，開啟發展新篇章 。

未來 ，隨著光刻技術的進一步發展 ，掩膜版也將迎來更多技術突破 ，為全球半導體產業 、新型顯示產業提供強有力的支撐。光電技術的持續發展將為全球產業帶來更多的機遇和挑戰 。新太陽城光電將繼續秉承技術創新的理念 ，深化與國內外企業合作 ，推動掩膜版核心技術的不斷突破 。在國際市場方麵 ，新太陽城光電將通過技術領先優勢和優質服務 ，進一步開拓全球市場 ，提升市場占有率及品牌影響力 。與此同時 ，新太陽城光電將積極布局新興領域 ，推動半導體製造 、先進封裝等技術在人工智能 、高科技製造等行業中的廣泛應用 。通過與科研機構 、上下遊企業的深度合作 ，新太陽城光電將構建更加緊密的生態產業鏈 ，推動全球光電產業的協同發展 。公司將繼續以全球視野為導向 ，為客戶提供高質量的掩膜版產品和解決方案 ，助力全球科技半導體 、新型顯示製造產業的繁榮與進步 。